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智能手机平板电脑用溅射靶材的分类与应用

发布时间 :2021-05-17 10:46:14 浏览次数 :

现如今生活离不开电子产品,我们常用的智能手机,平板电脑,用手指轻轻划就能出现各种不同的界面,这就是电子设备屏幕上种透明导电薄膜的功劳,而溅射靶材就用于生产这种透明导电薄膜中,那么什么是溅射靶材呢?溅射靶材是什么材质?下面就跟着巨伟钛业一起来了解下吧。

一、什么是溅射靶材?

溅射靶材是真空磁控溅射(PVD)镀膜所需的关键耗材。

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溅射靶材的要求较传统材料行业高,般要求如:尺寸、平整度、纯度、各项杂质含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸与缺陷控制;较高要求或殊要求包含:表面粗糙度、电阻值、晶粒尺寸均匀性、成份与组织均匀性、异物(氧化物)含量与尺寸、导磁率、超高密度与超细晶粒等等。磁控溅射镀膜是种新型的物理气相镀膜方式,就是用电子枪系统把电子发射并聚焦在被镀的材料上,使其被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离材料飞向基片淀积成膜。这种被镀的材料就叫溅射靶材。

二、溅射靶材材质分类

溅射靶材材质分类有三种分别是金属靶材、陶瓷靶材、合金靶材。

1、金属靶材

镍靶、Ni、钛靶、Ti、锌靶、Zn、铬靶、Cr、镁靶、Mg、铌靶、Nb、锡靶、Sn、铝靶、Al、铟靶、In、铁靶、Fe、锆铝靶、ZrAl、钛铝靶、TiAl、锆靶、Zr、铝硅靶、AlSi、硅靶、Si、铜靶Cu、钽靶T、a、锗靶、Ge、银靶、Ag、钴靶、Co、金靶、Au、钆靶、Gd、镧靶、La、钇靶、Y、铈靶、Ce、钨靶、w、不锈钢靶、镍铬靶、NiCr、铪靶、Hf、钼靶、Mo、铁镍靶、FeNi、钨靶、W等。

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2、陶瓷靶材

ITO靶、氧化镁靶、氧化铁靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化钛靶、氧化铬靶、氧化锌靶、硫化锌靶、二氧化硅靶、氧化硅靶、氧化铈靶、二氧化锆靶、五氧化二铌靶、二氧化钛靶、二氧化锆靶,、二氧化铪靶,二硼化钛靶,二硼化锆靶,三氧化钨靶,三氧化二铝靶五氧化二钽,五氧化二铌靶、氟化镁靶、氟化钇靶、硒化锌靶、氮化铝靶,氮化硅靶,氮化硼靶,氮化钛靶,碳化硅靶,铌酸锂靶、钛酸镨靶、钛酸钡靶、钛酸镧靶、氧化镍靶、溅射靶材等。

3、合金靶材

铁钴靶FeCo、铝硅靶AlSi、钛硅靶TiSi、铬硅靶CrSi、锌铝靶ZnAl、钛锌靶材TiZn、钛铝靶TiAl、钛锆靶TiZr、钛硅靶TiSi、钛镍靶TiNi、镍铬靶NiCr、镍铝靶NiAl、镍钒靶NiV、镍铁靶NiFe等。

三、溅射靶材应用领域

溅射靶材主要应用于电子及信息产业,如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等;亦可应用于玻璃镀膜域;还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、装饰用品等行业。如今市场电子产品需求量大,溅射靶材的市场规模也日益扩大。宝鸡市巨伟钛业材料有限公司是一家研发生产钛靶、铬靶、锆靶、镍靶、钛铝靶、钛丝、钛加工件、钛锻件等金属材料为主的高新技术企业,十余年专注于溅射靶材、镀膜靶材、平面多弧靶材研发、生产,靶材组织结构均匀、溅射成膜性能优异,如果您对靶材有疑问或需要,欢迎联系巨伟钛业。

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